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真空氣氛箱式爐LFM1200C-7.2VC

更新時間:  2025-07-15

產品型號:  

產品報價:  

所  在  地:  合肥市新站區(qū)穎河路22號

產品特點:  真空氣氛箱式爐LFM1200C-7.2VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝,也可用于產品的炭化試驗。

(聯(lián)系我時,請說明是在化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!)
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產品概述

一、設備簡介

該真空箱式爐系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝,也可用于產品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱,PID程序控溫儀控制,溫控儀可設定30 段升溫曲線、PID控制參數(shù)自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。爐體采超輕質高鋁纖維材料,具有熱容小、溫度升降控制靈活、節(jié)能等特點,設備可根據(jù)真空度的需要分別選用機械泵或其他真空機組,非常適合于試驗和小批量生產之用。

該設備為密封式加熱腔體,確保設備可在真空條件下,或者一些特殊氣氛條件下使用,相比普通箱式爐,使用環(huán)境更靈活,使用范圍更廣泛。

真空氣氛箱式爐LFM1200C-7.2VC

二、技術參數(shù)

型號

LFM1200C 7.2VC

額定功率

4KW

額定電壓

AC 220V 單相

最高溫度

1200

額定溫度

1100℃

升溫速率

10℃/min

控溫精度

±1℃

控溫方式

模糊 PID 程序控溫30段程序控溫

熱電偶型

K 

加熱元件

電阻絲

設備重量

200KG

外型尺寸(長××高)

660*830*1100mm

爐膛尺寸W*D*H

300*200*120mm

爐膛容積

7.2L

空氣開關

25A

冷態(tài)極限真空

≤100-400Pa



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